优可测隆重推出光栅尺寸全新一代测量解决方案——衍射三维形貌仪NM-300系列，为光通讯硅波导、AR/VR结构光栅、生物芯片、NAND、DRAM、光学薄膜等各种微纳光栅结构，提供光栅尺寸高效精准、易操作、多层结构测量解决方案。可快速精准提取出样品光栅的占空比、厚度与侧壁角等结构参数。
衍射三维形貌仪NM-300系列特点
01
高精度
三维形貌测量重复性(XYZ) ＜0.5nm
膜厚测量重复性0.01nm
可测CD尺寸≥20nm
02
高效率
可批量测量，单次测量时间＜20s
03
可测多层结构
04
可测多样式形貌
05
提供客制化
可根据客户不同光栅类型和场景提供客制化
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由专业工程师对接，提供全国范围内的免费测试服务!
粗糙度
高度/高度差
三维形貌
三维尺寸
二维轮廓
二维尺寸
平面度
膜厚
角度
厚度
定位
摆动/震动
